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          干貨|硅襯底GaN LED技術于Mini/Micro LED產業應用機遇與挑戰

          時間:2023-04-03 來源: 點擊:1242

          2023年3月30日,由TrendForce集邦咨詢旗下LEDinside、WitsView主辦的集邦咨詢新型顯示產業研討會圓滿召開,上千名產業上下游代表共襄盛舉,共論新型顯示行業未來。晶能光電外延工藝經理周名兵參加會議并分享了干貨滿滿的《硅襯底GaN LED技術于Mini/Micro LED產業應用機遇與挑戰》。

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          Micro LED作為“終極顯示技術”其在未來擁有千億級的市場,報告指出了Micro LED的優勢及面臨的挑戰。面向AR應用,Micro LED在亮度、能效、可靠性、響應時間、色彩飽和度、厚度、尺寸等方面具有優異的性能,市場潛力巨大,但目前也存在較大的技術挑戰,包括有效EQE有待提升;生產成本高,生產良率低;亮度一致性差;灰度響應/亮度漸變效果差;尚無理想的全彩方案等。


          大尺寸硅襯底GaN LED技術已經成為開發面向AR微顯Micro LED的主流路線,國內外大多數的Micro LED公司都在研究,主要是基于硅襯底的Micro LED具有大尺寸、低成本、高波長一致性、無損去除、低翹曲、CMOS兼容性等優點。

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          晶能光電在硅襯底GaN技術領域已深耕近二十年,在藍光LED領域率先實現全球產業化。公司將硅襯底GaN根技術應用于Micro LED,于2021年9月成功制備了RGB硅襯底Micro LED陣列,邁出了全彩化Micro LED芯片的關鍵性一步,成為全球第二家、國內第一家掌握硅襯底RGB三色Micro LED芯片技術的公司。


          對于實現全彩Micro LED來說,紅光LED是Micro LED技術的重大瓶頸之一,其效率、FWHM和波長漂移將會面臨重大挑戰。晶能光電在InGaN紅光LED外延方面取得了峰值EQE11.8%@1mm2的成果,處于行業領先水平。目前,晶能光電可向國內外客戶提供標準厚度8英寸RGB InGaN LED外延片。


          今年初,晶能光電開發出5 微米pitch的像素矩陣,年底將發布帶驅動的RGB三色陣列。接下來,我們將運用硅襯底Micro LED顯示技術,在AR眼鏡、矩陣車燈、HUD等方向,探究硅襯底Micro LED技術的產業化。


          資料來源:LEDinside


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